前年是瑞星科技公司的的一个分水岭，自从瑞星科技公司在研发浸液式光刻机成功后，也是开始大批量地将这些技术延伸到了所有的产品线，推出的氟化氪光刻机和氟化氩光刻机产品线迅速地被国内外的晶圆厂开始采购。
大量的晶圆厂开始抛弃了霓虹国的光刻机，纷纷转为采购瑞星科技公司的产品。
尤其是去年鹰酱国内的英特尔等知名的半导体厂商都是采购瑞星科技公司的产品，更是让霓虹国的佳能和尼康生产光刻机的业务遭受了重挫，市场份额那是直线下滑。
今年瑞星科技公司的光刻机产量也是达到了一个峰值水平，艾斯摩尔公司的到现在也只卖出去五十台的样子，而霓虹国的两家光刻机产量就更为可怜了。
乐观估计的话，今年瑞星科技公司光是在光刻机这一个业务上就能实现净销售额90多亿美金，净收入在40多亿美金，利润率极高。
如果加上刻蚀机和离子蒸镀设备这些业务的话，瑞星科技公司一年总的营收突破了两百亿美金。
而且因为客户都是企业，所以瑞星科技公司也不需要打广告什么的，销售人员也是很少，而且卖得都是高科技产品，自然利润极高。
而国内外为瑞星科技公司提供零部件的这些公司也是获利不菲。
光刻机的零部件有5000个左右，瑞星科技公司大部分的零件都是从国内外采购，采购的零件能够占到百分之七十八左右，其中国外采购量能占到总采购量的百分之四十，国内能占到百分之六十。
这些零部件的设计标准都是瑞星科技公司自己制定出来的，标准非常严苛，自然是保证了光刻机产品的质量和精度。
而瑞星科技公司主要研发的技术在组装、校准、精度、产品硬件和软件的稳定可靠性这些上面，用吹毛求疵来形容那是丝毫不过分的。
公司通过七八年的打磨和技术积累才达到了一个非常高的水准，而且这个标准随着制程工艺的进步还要进一步提高才能到达产品设计要求，可以说是一个没有尽头的道路。
这些公司制定出来的标准才是最重要的东西，现在就算是其他的公司拿到所有零件也不可能模仿出来。
杨杰对艾斯摩尔这家公司在今年也是推出类似的沉浸式光刻机产品来也是十分注意，这家公司在今后将是瑞星科技公司强劲的对手，路数跟瑞星科技公司十分相似，而且也是绕开了瑞星科技公司的技术专利，也足以证明了这家公司之前积累下来的深厚技术功底。
何玉光此前也是向杨杰建议向艾斯摩尔公司发起专利侵权的官司，不过杨杰却是否掉了。
有这么一家公司来跟瑞星科技公司竞争也是好事，如果这个市场真的只剩下一家公司后也会让瑞星科技公司失去动力的。
本来市场就是靠着产品技术实力来说话，说破了大天，结果产品技术不行什么都是虚的。
光刻机是昂贵的工具机，英特尔作为深紫外光光刻机的推动者，也是早就希望光刻机制造商能够推出这类的光刻机，但是现阶却是没有一家光刻机制造商能够量产，因为这个技术实在太难了，现在华兴集团公司也只是掌握了部分的技术。
杨杰也是让瑞星科技公司加快研制深紫外光光刻机的研发进度，也是希望能够在五年内能够让大部分的技术变得成熟起来，至少在抢在艾斯摩尔公司之前将这套深紫外光光刻机实现量产。
因为沉浸式光刻机的193纳米波长的氟化氩光源极限制程工艺只能达到22纳米，虽然说芯片制造商能够使用193纳米氟化氩沉浸式光刻机使用多重成像技术能够勉强地将制程工艺提升到16到14纳米节点甚至能够达到乃至10及7纳米节点，但是这种多重曝光技术增加曝光次数，导致成本显著上升，良率、产出大幅下降的问题。
如果这个时候深紫外光光刻机还不能实现量产的话，那么国内的制程工艺也就陷入了停滞状态，这个是杨杰不希望看到的。
他是希望在28到14纳米制程工艺节点的时候深紫外光光刻机就能实现量产，继续推动制程工艺往下走下去。
相比沉浸式光刻加三重成像技术，深紫外光光刻技术能够将金属层的制作成本降低9，过孔的制作成本降低28。
随着制程工艺逐渐逼近极限，深紫外光光刻机的光源需要不断地提升，镜组的孔径数值要更高，这些都是人类的工艺的极限挑战。
不过作为一个技术狂，像这样的技术的极限挑战却是让杨杰乐此不疲，要是不将这些拦在自己面前的技术困难给攻破，他是不能容忍的。
到时候他也是很希望自己很牛掰地跟媒体说：“如果我们交不出极紫外光光刻机的的话，摩尔定律就会从此停止。”
这个感觉才是让感科技工作者感觉到最爽的。
前世的时候，因为极紫外光光刻机的技术难度、需要的投资金额太高，另外两大微影设备厂──霓虹国的尼康和佳能都是放弃开发，艾斯摩尔公司成为半导体业能否继续冲刺下一代先进制程，开发出更省电、运算速度更快的电晶体的最后希望。
现在杨杰是希望自己旗下的瑞星科技公司成为这个最后的希望，能够让国内的半导体产业继续在这方面领先。
如果能做到这一点，这也是他这一生当中做得最骄傲的事情之一。
现阶段来说，深紫外光光刻机的原理已经不是什么秘密，做出