杨杰在得知黄明超等人研发的极紫外光光刻机对波长在12纳米的光源十分敏感，心中也是诧异了一下。
在前世的时候，艾斯摩尔公司研制的极紫外光光刻机的波长控制在13.5纳米，这主要是因为光刻胶的原因，这主要是因为光刻胶的配方主要是掌握在住友、tok、陶氏等少数几家公司手里，配方自然是又他们来决定的。
而黄明超他们配方不一样，自然对极紫外光光源不同的波长有着不一样的光化学效应。
之前黄明超他们来做实验主要是用扫描隧道显微镜来观察光刻胶对光源照射剂量反应后的情况，并不能实时地观察到这个反应过程，这样黄明超他们只能是不停靠着试错的方式来调整配方。
现在有了这个神光光源设施后，通过利用光源光束脉冲性质拍摄一系列的快照，这些快照聚集起来，随时间的推移，可以形成一个样品变化的动态图像。
这个就是神光光源设施仪器设备的时间分辨技术，有了这套技术设备可以清楚地观察到光刻胶在光源照射时的各种反应情况，可以让黄明超他们可以更快地分析判断光刻胶具体的性能，从而为配方的调整方向有了非常明确的目标，可以大大地缩短研发时间。
现在因为国内的主要的晶圆厂很大一部分都是使用华兴半导体材料公司的光刻胶产品，光是光刻胶这一个业务也是给半导体材料公司每年都带来巨大的利润，所以也足够支撑公司在这方面的研发。
光刻胶仅为半导体材料公司的子业务，公司还研发高纯度的靶材、薄膜晶体管的薄膜材料、氮化镓材料、晶体硅材料等，总共有数千名的工程师团队。
虽然说半导体材料公司每年光是研发投入就是十多亿美金，不过这个子公司每年的营收也是在上百多亿美金，虽然规模不大，但是真的是非常赚钱，利润率极高。
由于光刻胶等半导体材料技术门槛高，全世界能够供应的也都是那些大型材料商公司，数量极少，杨杰就是靠着自己建立起来的产业链使用自己公司提供的材料很短时间内就让半导体材料公司由无到有，由弱变强，在不降低产品品质的前提下精心地培养半导体材料公司，现在也是成为了能够跟海外那些大型材料商掰手腕的公司。
现在很多海外的客户也是开始选用华兴半导体材料公司的产品来进行生产，海外的客户数也是越来越多。
同时因为用自己公司的材料大量取代了海外公司的材料，也是大幅地降低了自家产品的生产成本，也是让整个公司的产品始终是保持足够的利润空间。
前世的时候国内虽然半导体产业也是看着很繁荣，但是彼此之间都是割裂开来的，很多的半导体材料都是掌握在海外的公司手里，决定着定价权，国内的这些材料国内的晶圆厂很多都是受制于外资，不会用也不敢用国产的材料。
但是现在中晶微、华越电子公司、华晶科技集团公司这三大公司的自主性都是非常高，刚开始的时候主要是用海外的半导体材料，之后逐步地开始用半导体材料公司的材料来代替，这方面都是很同步的。
所以除了华兴半导体材料公司之外，国内也是出现了十多家能够提供可靠国产化半导体材料的公司，半导体材料的国产化程度已经达到了百分之七十多，这些国内的半导体材料公司都是活得比较滋润。
不过在光刻掩膜光罩这个细分领域却是因为市场场集中度高，寡头垄断严重，丰创集团、霓虹国的d三家占据80以上的市场份额，不过这个市场规模也不大，现阶段来说只有二十多亿美金的样子，所以半导体材料公司在这方面就没有发力了，而是主要跟着几家公司都是有合作。
杨杰也从来没有说自己要把半导体材料整个市场给吞下来的想法，这些公司在这些细分领域持续研发了这么多年了，自然是有其过人之处。
而且华兴集团公司现在已经掌握了半导体产业最核心的技术，自然也是有底气进行合作的。
而且这些公司也是十分乐意跟华兴集团公司进行合作，为华兴集团公司开发各种高阶的光刻掩膜光罩。
现在国内成了全世界最大的芯片生产基地，这几家光罩厂自然对国内的半导体市场十分重视，丰创集团公司还在潭州市这边建设了最高等级的光罩厂，专门为中晶微、华越电子公司、华晶集团公司、天马科技公司等公司提供高端的光罩。
华兴集团公司现在正在研发极紫外光光刻机，自然也是跟丰创集团公司有过接触，希望他们能够研发出极紫外光光刻掩膜的光罩。
极紫外光光刻机光刻的时候使用镜面反射光而不是用透镜折射光，所以采用的光掩膜版也需要改成反射型，改用覆盖在基体上的硅和钼层来制作，同时因为极紫外光光刻机因为制程工艺极高，对光掩膜版的准确度、精密度、复杂度要求比以往更高。
当前制作掩膜版普遍使用的可变形状电子束设备，其写入时间成为最大的挑战，解决方案之一是采用多束电子束设备，这就需要这些生产制造电子束设备的公司开发相关多束电子束产品。
也是因为极紫外光光源破坏性太大，就算是丰创集团公司能够提供光刻掩膜，但是华兴集团公司也必须要研发出光掩膜的保护层薄膜，提供阻隔外界污染的实体屏障，可以防止微尘或挥发气体污染光掩膜表面，减少光掩膜使用时